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第55章 进组(2 / 2)

“这个就是cvd吗”李观指著那个器材问道。

“是的,这就是cvd还有刻蚀区,光刻区和封装区在后面。”

赵宇指著走廊远端的几间实验室。

“实验室要做到完全无尘还要做好防静电的措施,所以每次进入都要更换无尘服和防静电鞋套。”

李观点了点头,表示清楚。

组成晶片的电晶体这个东西极为细小,当前实验室中是90n的工艺,这意味著电晶体的长度约为90n。

举一个形象的例子,头髮的直径大约在50~100微米,取一个平均值70微米,等於70000n,是90n的数百倍之多。

所以人口鼻呼出的气溶胶,皮肤上脱落的皮肤屑,甚至包括隨身携带的电子器件在运行散热中积攒的灰尘,都会对其造成巨大的影响。

“其他人现在应该都已经进实验室了,你先坐这儿看下电脑上的操作规范视频,是之前的一个师弟录的。导师今天应该是去参加面试了,估计最早要10点多才能回来。等导师回来后,看他怎么安排吧。”

赵宇拉开了办公室內一张靠墙的桌子前的椅子,给他打开了电脑说道。

隨后他便也回到了自己的位置上,整理起了实验数据。

李观点开了文件夹里的操作教学视频,戴上了放在一旁的耳机。

整整两个小时的视频,他一点一点的加速视频,直到再快就听不清声音了才停下。活跃状態下他的思维处理事务的速度好像是有所提升,起码更专注了。

“你放这么快你看的明白吗”

一道声音突然在李观背后响起,原来不知不觉中时间过了快一个小时了,去面试的包仲文不知道什么时候已经回来了。身后还跟著一男一女,其中那名女生看到回头的李观神色极为惊讶。

“包教授。”

李观看见来人立马站了起来。

“我问你,这视频你放那么快你看的明白吗”包仲文没有理会李观的问候,再次问道,脸上看不出表情。

“看的明白。”李观肯定的说,“要是有字幕的话能更快些。”

“启动cvd设备前,正確的抽真空顺序”

“先开机械泵,再开分子泵。”

“cvd过程中,沉积速率异常偏低,最有可能是什么原因”

“反应温度未达到设定值。”

“標准低压lpcvd的典型工作压力范围是多少”

“1–100pa。”

两人一问一答,速度也越来越快,从注意事项,到操作流程甚至问到了应急处理。

两人没有人说一句多余的话,似乎心中都有著正確的答案。

“好小子!怪不得贾主任会帮你说话,你之前真没接触过cvd”

包仲文问得有些累了,终於停了下来,认真的看著李观说道,脸上露出了一丝笑意。

“我之前学过一些半导体方面的东西,但是都是比较粗浅的,cvd是第一回接触。”

“行,一会儿跟著我一起跑一遍沉积,还得实践出真知。”

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